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2020/03/03 访谈 > 教师 > 우수연구자

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【2019研究优秀教授】 半导体清洗和CMP领域的先驱者,引领韩国半导体产业的世界技术

朴镇求教授(工学院材料化学工学系)

Global News Team

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http://www.hanyang.ac.kr/surl/pS9IB

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       2019年发生的日本贸易限制规定中包含的氢氟酸是代表性的半导体清洗液。研究这种高纯度,高性能清洁液开发的先驱者是谁? 他就是汉阳大学材料化学工程系朴镇求教授。

      朴教授在亚利桑那大学获得半导体清洗领域博士学位后,在半导体公司Texas Instruments担任清洗表面介质领域的研究员。1994年,他到汉阳大学任职,一直研究清洗领域和表面介质领域。从1990年底开始,CMP这一研磨工艺开始应用于半导体领域,清洗与CMP的背景学问一致,所以一并开始从事CMP研究。

       半导体清洗和CMP研究是多学科间企业为中心的产业技术。该领域是仅限于半导体产业的特殊领域,研究起步较晚,需求也不很大,如果不了解企业的需求,就很难研究。朴教授构筑了半导体清洗和CMP研究所需的设施和装备,成为该领域的独一无二的专家。有评价称,汉阳大学凭借朴教授的研究能力,成为世界上唯一一所集中研究清洗领域30年的大学。朴教授研究室也是独一无二的同时研究清洗与CMP的研究组。随着半导体元件的配线减少到10纳米以下,Transistor的材料和结构发生了急剧改变,清洗和CMP技术的重要性变得无比重要。特别是,最近随着EUV技术成为重要技术,并开展了有关EUV清洗的研究。汉阳大学之所以能够在这一研究里成为中心,是因为朴教授的辛勤工作、完善的研究设施和充足的人力资源。

        朴教授实验室的研究经费和课题的70%以上都是企业要求进行的。朴教授实验室的优点是理解企业的需要,并能够在规定的时间内提交研究结果。约30%的研究项目接受海外企业的订单。特别是与日本的CMP设备公司建立战略关系,进行产学课题和学生实习项目。最近朴教授研究小组研究的CMP后清洁技术的论文和专利受到了国内外公司的极大关注。相关企业对朴教授实验室的研究内容非常关注,纷纷希望以发表的内容为基础,持续进行产学合作。朴教授研究的技术转让和专利以及论文的产业影响力将会继续增大。

        朴教授首次成立了半导体领域以企业为中心的研究学会。这是因为朴教授是国内CMP和清洗领域研究集团的先驱者,才得以实现。他在20年前与半导体公司的研究员们建立了韩国CMPUGM,使其成长为世界上最模范的CMP领域的专家组会议。另外,他还创建了CMP领域的国际学会ICPT(International Conference on Planarization/CMP Technology),并使其发展成为著名的国际学会,这也是在朴教授的努力下所取得的成果。

        半导体清洗是在技术基础薄弱的1980年中期开始研究的。在清除微米尺寸污染物的初期,清洗技术的难度几乎为零。但是,随着要清除100纳米以下的粒子,其重要性被凸显出来,再加上最近要求研发清除10纳米以下粒子的技术,清洁技术的重要性就尤为引入关注。清洁技术与其他半导体技术不同,是所有工程确立后提高收益率的生产技术,直接影响到半导体公司的销售额。汉阳大学设立了教育、研究、咨询半导体清洁技术的清洁技术产学合作协议会,正在对企业职员进行教育和研究及技术咨询。朴教授主管产学合作协议会。针对日本的贸易限制,他领导着汉阳大学技术自立支援团配件材料领域的技术自立支援事业。

       另外,朴教授正在进行韩国-比利时全球人才培养工作。通过半导体领域最高研究机构IMEC和名牌大学KU leuven签订的MOU派遣硕士,博士级学生。被派遣到IMEC的学生将在世界顶级研究设施工作,其教育效果是无法用金钱来衡量的。半导体清洗和CMP的技术难度正在继续扩大。这一领域需要多学科之间的专业理解和解释,只有与不同领域的专家共同进行研究,才能得出最佳的研究结果。朴教授表示如果需要自己的帮助,随时都可以跟他联系。他还说,自从步入50岁以后,他就一直在思考幸福的定义。认为只有幸福的人才能作为优秀的研究者和教育者获得成就感,因此他希望自己能够思考更加幸福的人生,成为对世界有帮助的研究者。

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